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Laserablation und Kathodenzerstäubung

Zur Herstellung oxidischer Schichten von mehrkomponentigen Materialien sind die Laserablation und die Kathodenzerstäubung besonders geeignet. Mit beiden Methoden können Schichten komplizierter Stöchiometrie in einer reaktiven Atmosphäre von einem einzigen Target deponiert werden.
Bei der Kathodenzerstäubung wird eine elektrische Gasentladung genutzt um die Targetatome aus dem Target zu lösen und die Schichtdeposition findet kontinuierlich statt. Bei der Laserablation wird durch einen hochenergetischen Laserpuls (1 J / 20ns) eine dünne Oberflächenschicht abgetragen und dieser Vorgang periodisch wiederholt (typisch 10 Hz).
Bei der Epitaxie unterstützt ein geeignet gewähltes Substrat durch Gitterparameter und Symmetrie seiner Oberfläche das einkristalline Wachstum der deponierten dünnen Schicht. Damit ist prinzipiell die Orientierung der dünnen Schicht einstellbar. Zur Präparation von oxidischen Verbindungen stehen in der AG Adrian eine Laserablationsanlage und 4 Sputteranlagen zur Verfügung.

Laserablationsanlage

Laserablationsanlage

 
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